Etudes de réactions de photopolymérisation en surface de cristaux ioniques isolants par nc-AFM sous UHV - Université de Toulon
Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Etudes de réactions de photopolymérisation en surface de cristaux ioniques isolants par nc-AFM sous UHV

Résumé

L’une des stratégies bien maitrisée et répandue en solution est fondée sur l’emploi d’un photo-initiateur qui absorbe fortement la lumière et se transforme en agent déclencheur d’une réaction radicalaire de polymérisation des monomères dispersés en solution. Notre travail s’inspire de ce comportement en solution pour tenter de le reproduire sur surface. La première étape consiste à trouver une combinaison d’un monomère et d’une surface permettant le développement d’une phase supramoléculaire métastable garantissant la diffusion des monomères pour réagir. La deuxième étape consiste à déposer sur la phase supramoléculaire précédemment créée un photo-initiateur capable de s’y adsorber et de déclencher la réaction de polymérisation photo-induite.
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Origine Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Dates et versions

hal-04233165 , version 1 (09-10-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04233165 , version 1

Citer

Elie Geagea, Sylvain Clair, Laurent Nony, Frédéric Cherioux, Christian Loppacher. Etudes de réactions de photopolymérisation en surface de cristaux ioniques isolants par nc-AFM sous UHV. Forum des Microscopies à Sonde Locale, Apr 2023, OBERNAI, France. ⟨hal-04233165⟩
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